實驗名稱：納米粒子摻雜對響應時間的影響

　　測試設備：高壓放大器、信號發生器、示波器、熱台控制器、衰減器、探測器等。

　　實驗過程：

　　圖1：VAN盒響應時間的測量裝置

　　响应时间也是影响液晶显示图像残留的重要参数，响应时间越短越不容易产生图像残留。实验中测量响应时间的装置如图1所示，光源为632.8nm的红色激光，光源经过衰减器、可调光阑、偏振片和λ/4波片后成圆偏振光，经过起偏器后成线偏振光，起偏器与检偏器的光轴方向成90°，热台控制液晶盒的温度为28°C。信号发生器输出1kHzAC方波信号和DC信号的组合波形，组合波形的周期为2s，经高壓放大器放大后施加在液晶盒上。当电压超过液晶盒阈值电压后，探测器会检测到光强的变化并传输到示波器上，通过示波器可以观察到液晶的动态响应过程。

　　實驗結果：

　　圖2：不同摻雜濃度γ-Fe₂O₃納米粒子與負性LC混合物在VAN盒中的下降和上升時間

　　圖3：不同摻雜濃度與響應時間的關系（a）歸一化透過率與下降時間的關系；（b）歸一化透過率與上升時間的關系；（c）下降時間與摻雜濃度的關系；（d）上升時間與摻雜濃度的關系

　　實驗測得的不同摻雜γ-Fe₂O₃納米粒子濃度對響應時間的影響如圖2所示，由圖可知納米粒子摻雜對響應時間有一定的影響。圖3（a）和圖3（b）分別給出了下降時間和上升時間的放大圖，其中下降時間爲去電壓過程，上升時間爲加電壓過程；由圖3（c）和圖3（d）可以看出上升時間和下降時間均隨摻雜濃度的增加先降低後升高，並在摻雜濃度爲0.034wt%時達到最低值，在摻雜濃度爲0.034wt%時，下降時間可以縮短8.11%，上升時間可以縮短15.49%。SRDCV與響應時間隨γ-Fe₂O₃納米粒子摻雜變化規律一致，說明γ-Fe₂O₃納米粒子的摻雜有效改善了VAN顯示模式的圖像殘留現象。

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